【会社概要】

ご挨拶

１９６０年の創業以来「タンタルコンデンサ陽極素子」の製造に携わって参りました。

タンタルコンデンサにおいて電極となる「素子」は最も重要な構成要素であり、その製造技術は粉体を特定の密度で成形・焼結することに特徴があります。
粉体を低密度で、しかも指定した密度で加工するのは、かなり特殊な技術と言えます。

「研究」と「生産」のどちらにおいても、注意深い現状分析、大胆な発想、たゆまぬ探求心が「結果」を生み出すことを信じ、お客様の要求に応えてまいります。
私たちは本当に小さな力ですが、「お客様に学ぶ」を信条として成長を続けたいと考えております。

高い倫理感と豊かな社会常識を持ち、
法令の遵守および社会規範の尊重を徹底し
常に良識ある企業活動を行う。

会社名	株式会社　高純度物質研究所 (Pure Material Laboratory)
代表者	代表取締役　竹村　輝男
従業員数	72名
事業内容	タンタルコンデンサ陽極素子生産・開発生産設備を自社内で設計・製作
設立	1960年10月1日
資本金	9,690万円
事業所	本社　工場－東京都東村山市久米川町5-30-1 国分寺研究室－東京都国分寺市南町1-11-10
取引先	主要電子機器メーカー
加盟団体	新技術協会、真空学会、電気化学協会、粉体工学会（50音順）

1960年	(有)高純度物質研究所、資本金70万円で設立
1967年	世界初、連続真空焼却炉(8F)稼動
1970年	東村山に工場建設
1978年	PEC型ミニチュアコンデンサ製造開始
1979年	角形ペレット試作始める
1984年	月産3,000万個、月間売上1億円達成
1987年	月産4,000万個達成
1991年	月産8,000万個達成、資本金5,700万円に増資
1995年	月産1億個達成、久米川工場・会津工場稼動
2000年	月産3億個達成、本社工場増築、サンアイ工業(株)吸収
2004年	ISO14001認証取得、国分寺工場増築、久米川工場・会津工場が本社工場へ統合
2012年	ISO9001認証取得